A fabricação da próxima geração de chips, previstos para entrada no mercado em 2024, com maior velocidade de processamento e menor consumo de energia, é baseada na tecnologia de litografia com luz na região do ultravioleta extremo. Nesse processo, gotas de estanho são bombardeadas com pulsos de laser, o que dá origem a um plasma que emite radiação com comprimento de onda na região do ultravioleta extremo.
Para a formação do plasma, inicialmente eleva-se a temperatura da gota de estanho através do bombardeamento com um primeiro pulso de laser. O estanho tem densidade ρ = 7,0×103 kg/m3 e calor específico cSn ≃ 200 J/(kg∙°C), e o volume da gota é V = 2,0×10−14 m3. Qual a energia que um pulso de laser deve conter para elevar a temperatura da gota de 25 °C para 175 °C?
Use a densidade e o volume para obter a massa e, em seguida, aplique no cálculo de calor sensível!